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ルチル基板

 ルチルは複屈折性を用いた光学材料用途以外にも、エピタキシャル成長用基板としても注目されています。

弊社は、ベルヌーイ法による結晶成長から、基板加工まで一貫生産を行っております。ルチル結晶としては、大きさ、品質、生産量とも世界トップレベルを誇っています。
Nbをドープし導電性を持たせたNb:TiO2基板や原子レベルで平坦なSTEP基板もご提供しております。様々なエピタキシャル成長に最適なルチル基板を皆様のご研究にお役立て下さい。


物性
組成 TiO2
結晶系 正方晶
結晶構造 ルチル型
格子定数 a=0.45935 nm
c=0.29580 nm
融点 1840 ℃
育成方法 ベルヌーイ法 
密度 4.252 g/cm3(20 ℃)
誘電率 113 (1 MHz)
熱膨張係数
(30〜400℃)
(a軸方向)7.81×10-6/℃
(c軸方向)10.1×10-6/℃
バンドギャップ 3.0 eV
屈折率
(at 706.5 nm)
no=2.5490
ne=2.8226

ルチル結晶のロッキングカーブ

標準仕様
種類  TiO2 Nb(0.05 wt%)
:TiO2
Nb=0.04 at%
Nb(0.5 wt%)
:TiO2
Nb=0.43 at%
Nb(1.0 wt%)
:TiO2
Nb=0.86 at%
純度  >99.98 %  >99.98 %  >99.98 %  >99.98 %
抵抗率
(Ω・cm)
>107  約5×100 約3×10-1 約1.5×10-1
面方位
(公差:±0.5 °)
(100)
(110)
(001)
(100)
(110)
(001)
(100)
(110)
(001)
(100)
(110)
(001)
サイズ
(外形公差±0.1mm
厚み公差±0.05mm)
10×10×0.5t
15×15×0.5t
10×10×0.5t
15×15×0.5
10×10×0.5t
15×15×0.5
10×10×0.5t
15×15×0.5
研磨 片面、両面 片面、両面 片面、両面 片面、両面
表面粗さ Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm
Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm
Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm
Ra≦1.0nm
Rmax≦5.0nm
平坦度
(λ=632.8 nm)
10×10≦λ
15×15≦1.5λ
10×10≦λ
15×15≦1.5λ
10×10≦λ
15×15≦1.5λ
10×10≦λ
15×15≦1.5λ
オプション STEP基板
OFF基板
ブレイク溝付き基板
STEP基板
OFF基板
ブレイク溝付き基板
STEP基板
OFF基板
ブレイク溝付き基板
OFF基板
ブレイク溝付き基板

※お客様のご要望により特殊仕様も承りますのでお問い合わせください。

※納期について
 標準品:受注後約1週間
 特殊仕様品:受注後約1か月〜

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