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薄膜成長用酸化物基板

 弊社は1980年代から高温超電導薄膜やGaNなどの基板としてSrTiO3やサファイア基板を提供をはじめ、科学技術の向上に貢献し続けています。

 エピタキシャル成長用基板は、結晶性、基板表面の平滑、平坦性とともに最表面の結晶格子歪の有無が重要です。弊社は長年の技術の蓄積により、結晶育成(一部結晶は除く)から加工まで自社内で一貫生産しており、高精度な加工技術により、加工歪層のない高品質な結晶基板表面に仕上げております。

 標準的な仕様は常に在庫を持っており、ご発注後一週間程度でお届可能です。ご希望に合わせて面方位、形状、OFF角度などをオーダーメイドすることも常に行っております。ラインアップにない結晶材料も取り扱っておりますのでご気軽にお問い合わせください。

誘電体、超伝導、化合物半導体などのエピタキシャル成長に最適な酸化物結晶基板を提供しております。

標準取扱い材料
 チタン酸ストロンチウム
SrTiO3
サファイア
Al2O3
酸化チタン(ルチル)
TiO2(Rutile)
 ネオジガレート
NdGaO3 
ランタンアルミネート
LaAlO3
LSAT
(LaAlO3)0.3-
(SrAl0.5Ta0.5O3)0.7
スピネル
MgAl2O4
酸化マグネシウム
MgO
YSZ
(イットリア安定化ジルコニア)

オプション
STEP基板 バイクリスタル
Bicrystal
ブレイク溝付き基板



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